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德國微型雷射干涉儀系列NEW(www.sios-de.com)


     微 型 雷 射 干 涉 儀 SP-NG  NEW  精準/輕巧/方便/易用的雷射干涉儀  

     高 精 度 5D 雷 射 量 測 系 統 SP5000C 2D  NEW  :  精準/多功/快速/一次量測五自由度的雷射干涉儀 ! 線性滑軌即時調校的最佳工具!

     超高精度5D雷射量測系統 SP15000C    NEW : 超高精準/長距離/多功/快速/一次量測多自由度的雷射干涉儀 ! 線性滑軌即時調校的最佳工具!

       高穩頻HeNe雷射暨光纖耦合器
       奈米微型雷射干涉儀
       奈米顯微振動量測分析儀
       奈米三次元定位及量測系統    
 

美國都卜勒雷射校正儀及應用系列

  • MCV-500:雷射定位校正
  • SD-500:雷射空間校正模組
  • SQ-500:雷射直線度及垂直度校正模組
  • LB-500:雷射動態循圓校正模組
  • MCV-2002:雷射定位、角度、直度、平坦度校正
  • MCV-4000:雷射定位、角度、直度、垂直度、平坦度校正
  • MCV-5000:大型五軸航太雷射校驗系統
  • RT-100: 雷射分度盤校正模組
  • LDS-1000:雷射位移計(光學尺)  

 都卜勒雷射校正及定位量測系統應用領域:

一、位移及角度量測

     1. CNC工具機,量床,精密量測儀器校正及補正之品質控管及維護
     2. 誤差來源的確認及分析。
     3. 快速檢測校正機器空間精度。
     4. CNC工具機、量床、精密機械動態測試.。
     5. 同時量測位移及角度。
     6. 檢測機器完整的循圓能力。

二、振動分析
   
     1. 高精密振動分析及奈米量測系統。
     2. 二相對物體振動分析量測。
     3. 量測微小物體之共振頻率。

三、量測及定位

     1. 大範圍奈米量測及定位系統。
     2. 量測定位回饋系統。

  
Optodyne's Patents 
 
              Laser Doppler Displacement Measuring system and apparatus. ( LDDM® ) 
          US Patent 4,715,706, December 29, 1987

Interferometer requiring no critical component alignment. US Patent 5,116,126, May 26, 1992

Apparatus for measuring high frequency vibration, motion, or displacement. US Patent 5,394,233, February 28, 1995

laser positioning methods and apparatus for rotary actuator Arms, and the like.

US Patent 5,471,304, November 29, 1995

A technique for the measurement and calibration of angular position. US Patent 5,724,130, March 3, 1998

A vector measurement method and apparatus. US Patent 6,498,653 12/24/2002.

Tool path measurement technique. US Patent 6,519,043 2/11/2003.